densoku各種膜厚儀的原理和特點(diǎn)

發(fā)布日期：2022-12-23      瀏覽次數(shù)：750

densoku各種膜厚儀的原理和特點(diǎn)

熒光X射線膜厚儀測量原理



當(dāng)用 X 射線照射物質(zhì)時(shí)，會(huì)發(fā)射出具有該物質(zhì)所含元素所*的光譜（波長、能量）的 X 射線。這些二次 X 射線稱為熒光 X 射線。
一種物質(zhì)發(fā)出的熒光 X 射線的量取決于該物質(zhì)中所含每種元素的量。
因此，在基底（基板）上涂有薄膜（鍍層）的樣品的情況下，從薄膜發(fā)射的熒光 X 射線量取決于薄膜的厚度。，可以確定薄膜的厚度準(zhǔn)確。

熒光X射線涂層測厚儀的特點(diǎn)

• 熒光 X 射線根據(jù)金屬的原子序數(shù)而具有不同的能量，利用這種電位差和強(qiáng)度，不僅可以測量單層膜，還可以測量雙層、三層膜的膜厚, 和合金薄膜..

• 通過縮小X射線的照射范圍，可以測量微小范圍的膜厚，適用于小型零件的測量。

使用示例

• 鐵鍍鋅膜厚測量。示例：應(yīng)用于螺栓、螺母等的鍍鋅膜厚度控制。

• 印刷電路板上Cr/Ni/Cu、Au/Ni/Cu等多層鍍層的厚度測量

• Zn-Ni等合金鍍層厚度測量

• 其他鍍膜厚度測量

電解膜厚度測量原理

鍍膜厚度是通過陽極電解法溶解鍍膜來測量的，這是一種應(yīng)用規(guī)則測量鍍層厚度的方法 （陽極電解電路見圖1）在鍍膜結(jié)束時(shí)，由于測量部分被恒定電流溶解，膜金屬消失，當(dāng)基體金屬出現(xiàn)時(shí)，陽極電壓發(fā)生變化，并且檢測到此電壓變化以結(jié)束測量。（見圖二）



電解膜測厚儀的特點(diǎn)

• 雖然是破壞型測量，但可以通過簡單的測量來測量，也可以測量多層電鍍。

• 可測量雙鎳、三鎳各層膜厚及電位差

• 可以分別測量銅鍍錫時(shí)形成的純錫層和合金層的厚度。

• 可以測量 X 射線無法測量的厚多層鍍層（最大 300 μm）

• 通過使用線測試儀，可以測量細(xì)線的電鍍膜厚度。

使用示例

• 鍍錫線（鍍錫銅線）純錫層厚度測量

• 汽車外飾件用Cr/Ni/Cu三層鍍層測量，鍍Ni用
  雙鎳/三鎳電位差測量

• 與非破壞性薄膜測厚儀的測量結(jié)果進(jìn)行交叉檢查

渦流膜厚儀的測量原理

當(dāng)帶有高頻電流的探頭（探頭線圈）靠近金屬時(shí)，金屬表面會(huì)產(chǎn)生渦流。
這種渦流受高頻磁場的強(qiáng)度和頻率、金屬的導(dǎo)電性、厚度、形狀等的影響，穿透深度和大小不同。
然后渦流流動(dòng)以抵消探頭的高頻磁場，改變探頭的高頻電阻值。
這種高頻電阻變化的幅度一般與膜厚值不成正比。
通過參考內(nèi)置或用戶創(chuàng)建的特性曲線（校準(zhǔn)曲線）轉(zhuǎn)換為薄膜厚度值。



渦流膜厚檢測儀的特點(diǎn)

• 可以測量幾乎所有金屬上的薄膜（鋁、鋅、鉻等的氧化膜，鐵上的電鍍和油漆）
  或幾乎所有非金屬上的金屬薄膜（塑料上的電鍍等）。

• 非常適合 100% 檢查，因?yàn)樗梢栽诙虝r(shí)間內(nèi)（1 秒內(nèi)）進(jìn)行非破壞性測量。

• 也可以測量曲面、球面、管道內(nèi)表面（φ12.7 mm 或更大）。

使用示例

• 樹脂上鋁薄膜的測量。示例：應(yīng)用于汽車前照燈反射器的鋁沉積（從 100 nm 開始）的質(zhì)量控制。

• 鋁材上氧化鋁膜厚度的測量

• 鐵鍍鋅膜厚測量（與熒光X射線膜厚儀聯(lián)用）

• 陶瓷鍍鎳層厚度測量

電阻式薄膜測厚儀的測量原理

恒定電流通過被測導(dǎo)電物體的規(guī)定截面，在該截面內(nèi)一定距離處產(chǎn)生的電壓被換算成膜厚。
將四個(gè)引腳（探針）放在印刷電路板上的銅箔上。銅箔的厚度可以通過向兩個(gè)外部探針施加電流并測量兩個(gè)內(nèi)部探針之間產(chǎn)生的電位差來獲得。



電阻膜厚測試儀的特點(diǎn)

• 印刷電路板用銅箔測厚時(shí)，如果銅箔為單層，可用渦流測厚儀測厚，無法測量。
  電阻法僅在表層施加電流并測量銅箔的厚度，因此可以不受下層影響而精確測量。

使用示例

• 測量多層板表面銅箔厚度

• 非金屬上金屬薄膜的厚度測量