露點(diǎn)儀TK-100在半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)中的應(yīng)用

發(fā)布日期：2023-10-21      瀏覽次數(shù)：572

露點(diǎn)儀TK-100在半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)中的應(yīng)用

測(cè)量氣體中的水蒸氣露點(diǎn)溫度的儀器叫做露點(diǎn)儀。露點(diǎn)儀因所使用的冷卻方法和檢測(cè)控制方法不同，可以分為多種類(lèi)型。

露點(diǎn)儀在半導(dǎo)體芯片的生產(chǎn)工藝中起重要監(jiān)測(cè)作用。半導(dǎo)體芯片的生產(chǎn)是在凈化間內(nèi)進(jìn)行的。凈化間規(guī)范往往包括相對(duì)濕度（RH）這一項(xiàng)，一年內(nèi)控制點(diǎn)的范圍從35%到65%，精度2%（70℃以下）濕度超標(biāo)會(huì)影響產(chǎn)品質(zhì)量及生產(chǎn)計(jì)劃的完成。

        在半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)區(qū)，濕度不穩(wěn)定，會(huì)出現(xiàn)很多問(wèn)題。最典型的問(wèn)題是烘干期延長(zhǎng)，整個(gè)處理過(guò)程變得難以控制。當(dāng)相對(duì)濕度高于35%時(shí)，元件易被腐蝕。此外，將顯影液噴在芯片表面時(shí)，顯影液迅速揮發(fā)，使芯片表面溫度下降，致使水汽凝結(jié)在芯片表面。凝結(jié)水不但會(huì)影響顯影特性，還會(huì)吸收到半導(dǎo)體內(nèi)，這將導(dǎo)致膨化及其它質(zhì)量缺陷，還必須增加一些不必要的工藝控制。

        凈化間常用的除濕方法有兩種。一種是調(diào)節(jié)空氣，另一種是除濕劑。采用第一種方法時(shí)，將與凈化間氣流接觸的表面的溫度降至氣流露點(diǎn)以下。除去析出的冷凝水，將除濕后的空氣加熱至規(guī)定溫度后，重新送回凈化間。標(biāo)準(zhǔn)冷凍機(jī)可保證露點(diǎn)達(dá)到+4℃；采用第二種方法時(shí)，氣流通過(guò)吸濕劑，吸濕劑直接吸收氣流中的水分，然后將除濕后的空氣送回凈化間。吸濕劑除濕法可使露點(diǎn)低于-18℃。






TK-100 在線露點(diǎn)儀的傳感器，采用的是 靜電容量式原理。 

當(dāng)水分子被夾在兩個(gè)導(dǎo)電層之間的多孔絕緣層 吸收時(shí)，上導(dǎo)電層與下導(dǎo)電層之間的電容將會(huì) 產(chǎn)生變化。 

該電容量通過(guò)傳感器內(nèi)部電路被線性的轉(zhuǎn)換為露點(diǎn) 的模擬信號(hào)。 吸濕水分的絕緣層厚度為 0.5 μm 以下，上層導(dǎo)電金屬層厚度為 0.1 μm 以下，即使少量 水分的吸附也可迅速反應(yīng)。 

擁有如此薄度的同時(shí)，傳感器仍保持優(yōu)秀的強(qiáng)韌及耐久性。

高度可信性的校準(zhǔn)/可追溯性 

TK-100 在線露點(diǎn)儀，在嚴(yán)格的溫濕度管理下，采用美國(guó) NIST 和具有可追溯性的基準(zhǔn)露點(diǎn)儀對(duì)各種測(cè)量?jī)x器進(jìn)行校準(zhǔn)。 

此外，本公司在－70 ℃ 至－10 ℃的低露點(diǎn)范圍領(lǐng)域，被認(rèn)定為 JCSS※ 校準(zhǔn)企業(yè)。因此，在傳統(tǒng)的 NIST 可追溯性校準(zhǔn)的基礎(chǔ)上， 可按照 ISO/IEC17025 進(jìn)行校準(zhǔn)。